科学时报讯 (江竹幽) 12月12日，“中国科学技术大学－SHINCRON先进薄膜工艺材料实验室”正式成立，合肥微尺度物质科学国家实验室常务副主任、中国科大副校长侯建国院士、日本SHINCRON株式会社社长田中茂德分别代表中日双方为实验室揭牌。
SHINCRON公司是国际知名的光学镀膜设备制造企业，其镀膜设备为SONY、NIKON等许多国际知名大公司所广泛采用，具有雄厚的技术力量和生产能力。中国科大在薄膜工艺与材料及其它相关学科领域和人才方面具有综合性优势。双方本着优势互补、共同研究共同发展的原则成立了联合实验室。由SHINCRON公司提供关键设备－ACS800磁控反应溅射镀膜机，是具有国际先进水平的智能化光学薄膜制备系统，稳定性好、产品重复性和品质高，特别是镀膜过程中的实时监控连续光波透过率的光控系统和实时反馈系统，为高品质多层膜的研究与开发提供了充分的保证。而科大将为实验室运行提供人员、场地和其它配套设施等。双方表示将在先进薄膜工艺与材料方面，开展广泛的研究与开发工作。
双方对实验室的前期筹备及试运行工作给予了肯定，并对今后的工作进行了展望。侯建国表示，联合实验室的成立，是中国科大在实现产学研相结合、促进科研成果向生产力的转化方面再次迈出的坚实一步。
